突破半导体极限:科学家用“镓”重塑“锗”晶格,量子芯片离硅基产线还有多远?

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## 原文要点

据报道,发表在《自然-纳米技术》(Nature Nanotechnology)杂志上的一项最新研究指出,科研人员成功将半导体材料锗(Germanium)中八分之一的原子替换为超导金属镓(Gallium),从而培育出一种兼具半导体特性与超导性能的新型量子材料。这一突破有望为量子计算和高灵敏度量子传感技术带来革命性变革。

原文指出,将半导体掺杂至超导状态的概念最早由加州大学伯克利分校名誉教授马文·科恩(Marvin Cohen)于1964年提出。在21世纪前十年,多个科研团队曾尝试利用粒子轰击法将超导金属植入硅或锗中,但轰击过程破坏了晶体的晶格结构,且后续退火处理令科学家无法确认超导特性究竟是来自新形成的“超导相”,还是仅仅因为掺杂原子聚集成了局部的“超导岛”。

为了解决这一物理学难题,纽约大学物理学教授贾瓦德·沙巴尼(Javad Shabani)及其团队改用分子束外延(MBE)技术。该技术能够逐层构建晶体,通过精确控制环境与原子浓度,使镓原子在每个晶胞中精准替代锗原子。这种物理沉积方法彻底绕过了化学溶解度的极限限制。

经昆士兰大学团队使用尖端设备进行高精度检测,证实该材料具有清晰的晶体层结构,其超导转变温度高达3.5开尔文(K),明显高于纯镓超导所需的1K。研究人员还发现,该晶体在垂直方向上轻微膨胀以容纳体积略大的镓原子,而在晶面方向的原子间距则保持不变,呈现出完美的原子级畸变。

## 深度分析

从科技财经与产业落地的双重维度来看,这项研究的重大意义不仅在于证实了六十年前的物理学假说,更在于它为量子计算的“工程化”与“规模化”铺平了道路。

首先,材料的选择展现了极高的商业智慧。尽管硅是当今半导体产业的绝对霸主,但锗与硅具有极高的工艺兼容性。通过在锗中实现超导,科学家实际上是在经典的硅基半导体生态与前沿的量子硬件之间架起了一座桥梁。这意味着,未来的量子芯片制造无需从零构建昂贵的全新产业链,而是有望直接兼容并利用全球现有的、价值数万亿美元的经典半导体代工厂(Fabs)。这种“借鸡生蛋”的模式将极大降低量子计算的研发与量产成本。

其次,分子束外延(MBE)技术的引入,打破了传统材料学的“思想钢印”。过去,高浓度掺杂受限于热力学平衡下的“溶解度极限”,而MBE这种“物理喷涂”式的逐层构建,让科学家能够像搭积木一样精准定制晶格。这种从“暴力轰击”向“精准重塑”的思路转变,为寻找拓扑超导体等新型量子材料开辟了全新路径。

最令人瞩目的是,该材料3.5K的超导转变温度反常地高于其母体超导金属(纯镓为1K)。这种“子代优于亲代”的量子反常现象,暗示其背后可能存在独特的电子耦合机制。如果这一机制能被进一步解密并推广至硅材料,量子芯片的运行环境温度要求将得以提升。虽然3.5K依然处于极低温范畴,但对于制冷要求而言,每提升1K都意味着制冷机体积的成倍缩小和功耗的显著降低。这无疑将加速量子计算从科研实验室走向企业级商业应用。
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📰 来源: [Live Science](https://news.google.com/rss/articles/CBMi_AFBVV95cUxOWmtLZ3ZCajg3ak9Da003a0NJTzh4OFh2M3FpcERSQ2dMZG13Y2FybnFQZEhlQ1VYN214RnVKTGdlWklzbXlyeDhjSnZuSndjYU1GLXM4eTJsNl9oSHpNVzhCa1hNTDNkbFYwVHcxZ2ljMy1kZVZHVlZHc2UzQmtvR1hPRkU1TDREdHBVSng1cjVrZUx4X3hQSDYyS1drdlpwekpkNWtfazNvZDZaR3RCT2hPYVdndFJ2MDVxZmVtNEVRdU11a1lXODdxZ2paWC03SFhUZWRzZ0F2SkdTd1BIYVJzRzNiSlZVaUtKWWpKSXYtYkgxT0YzcFIxejE?oc=5)

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